ジェネシス・テクノロジー株式会社様が「第10回LSI IPデザイン・アワード」（企業部門）にて 奨励賞を受賞しました。
◆テーマ：「電子割符IPの開発」
ジェネシス・テクノロジー（株） 山田和也、平手孝昌、永田剛志、吉田賢司、中住晃
グローバルフレンドシップ（株） 保倉豊、川城三治、濱崎武志
◆「第10回LSI IPデザイン・アワード受賞者発表会」
日時 2008年4月24日 10:00～17:15
場所 東京コンファレンスセンター・品川 4階 402
＜参考＞「第10回LSI IPデザイン・アワード」について
１．趣旨
半導体設計資産（LSI IP:LSI Intellectual Property）の公募、評価・審査、登録公開、助成金・賞金授与の仕組みを通して、システムLSIの実現に不可欠なIPの創造・開発を促進するとともに、エレクトロニクス産業の飛躍的発展に貢献する。
２．主催・共催
主催：LSI IPデザイン・アワード運営委員会
共催：財団法人電気・電子情報学術振興財団